英特爾與日本國家先進工業科學技術研究所（AIST）攜手合作，將在日本建造首個配備極紫外光（EUV）設備的晶片製造研發中心。此舉旨在提升日本在全球晶片製造領域的競爭力，以彌補日本在EUV技術上的不足。該中心由AIST經營，英特爾提供EUV技術專業知識，為日本晶片設計師提供寶貴的學習和實踐機會，促進國際合作與技術交流。
最近，英特爾與日本的國家先進工業科學技術研究所（AIST）達成了合作協議，計劃在日本建立一個專注於晶片製造的研發中心。
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這個中心將是日本首個配備極紫外光（EUV）設備的設施，EUV 技術用於製造最小的晶片組，尺寸可達5奈米或更小。
這個新建的研發中心將由AIST 經營，而英特爾則會提供在EUV 技術方面的專業知識。這意味著，日本的晶片設計師們將有機會與AIST 和英特爾合作，利用最新的製程技術，提升他們在全球市場的競爭力。
需要指出的是，EUV 設備的成本相當高昂，每台設備的價格約為2億美元左右。目前，日本的企業通常透過海外機構，例如比利時的Imec，來接觸這種先進的技術。而日本半導體公司Rapidus 也計劃在12月安裝自己的Imec EUV 技術。
新研發中心的建設預計將需要三到五年的時間，考慮到EUV 設備的高價，整體費用可能會達到數億美元。這個中心將成為一個重要的資源，為晶片製造商和材料公司提供服務，收取一定的費用。
英特爾和AIST 的合作不僅能幫助日本的半導體產業向前邁進一步，還能吸引更多的國際合作與投資，協助日本在全球半導體市場的地位。
劃重點:
英特爾與日本AIST 合作，設立先進晶片研發中心，填補國內EUV 技術空白。
? 新中心將配備昂貴的極紫外光設備，協助晶片設計師提升競爭力。
?️ 預計建設需三到五年，總投資將達數億美元，成為日本半導體產業的重要資源。
英特爾和AIST的合作，標誌著日本在先進晶片製造領域邁出了重要一步，也預示著未來日本半導體產業將迎來新的發展機會。 這項耗資數億美元的投資，不僅將推動日本半導體技術進步，更將加強其在全球半導體產業鏈中的地位，促進國際間的技術合作與交流。